工学修士, 電気通信大学, 1997年03月

工学博士, 電気通信大学, 2000年03月

Optical properties

Research and development

Electron and emission

Electronic properties in general

Science and technology in general

Solid-state devices

Engineering in general

光物性

研究開発

イオン放出

電子放出

電子物性一般

科学技術一般

固体デバイス

工学一般

ナノテク・材料, 応用物理一般, Nano Science, Material Science, Applied Physics, Electronics

1997年04月 - 2000年03月
電気通信大学, 電気通信学研究科（博士後期課程）, 電子工学専攻, 日本国

1995年04月 - 1997年03月
電気通信大学, 電気通信学研究科（博士前期課程）, 電子工学専攻, 日本国

1991年04月 - 1995年03月
電気通信大学, 電気通信学部, 電子工学科, 日本国

2021年06月 - 現在
国費特別プログラム実施委員, 電気通信大学

2020年11月 - 現在
国際教育WG, 電気通信大学

2017年04月 - 現在
大学院 情報理工学研究科 教育委員, 電気通信大学, 国際教育センターからオブザーバーとして参加

2013年04月 - 現在
国際交流センター運営委員会, 電気通信大学

2009年04月 - 現在
研究設備センター委員

2019年12月 - 2021年05月
拡大MICH運営委員, 電気通信大学

2010年04月 - 2014年03月
安全・環境保全室（薬品管理部門）, 電気通信大学

2002年04月 - 2005年03月
機器分析センター委員, 電気通信大学

電気通信大学における国際科目－UEC Academic Skills I（Computer Literacy）－
CHOO Cheow Keong
筆頭著者, 多摩留学生教育研究論集, 11号, 掲載ページ 16-23, 出版日 2018年03月, 査読付, 国内誌, 電気通信大学は学生の国際化と英語力強化を図るため、1997年より 英語による国際科目を開講している。国際科目は、海外の協定校からの短期交換留学生にも提供されている科目で、正規学生と短期交換留学生の双方に交流と学び合う機会を提供している。UEC Academic Skills I （Computer Literacy）は、電気通信大学の学域（学部）で開講されている国際科目の1つであ り、パソコンのスキルを習得するとともに正規学生と短期交換留学生とのコミュニケーションを図り、正規学生の海外留学を促進する環境も提供している。本稿では、2014年の国際科目の再編の際に 、内容を改編したUEC Academic Skills Iのカリキュラム内容を報告し、学生による授業評価の結果を分析し、問題点と将来に向けての改善点を検討する。
研究論文（学術雑誌）, 日本語

Characterization of SrTiO3 target doped with Co ions, SrCoxTi1−xO3−δ, and their thin films prepared by pulsed laser ablation (PLA) in water for visible light response
Fumihiko Ichiharaa; Yuma Murataa; Hiroshi Onoa; Cheow-keong Choo; Katsumi Tanaka
Applied Surface Science, 419巻, 掲載ページ 126-137, 出版日 2017年10月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Effects of nitrogen substitution in amorphous carbon films on electronic structure and surface reactivity studied with x-ray and ultra-violet photoelectron spectroscopies
Yuma Murata; Rempei Nakayama; Fumihiko Ichihara; Hiroshi Ono; Cheow-Keong Choo; Katsumi Tanaka
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 121巻, 9号, 掲載ページ 095302-1-095302-12, 出版日 2017年03月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Moodleを活用した留学生用「安否確認システム」の構築と運営
CHOO Cheow Keong
多摩留学生センター教育研究論集, 電気通信大学国際交流推進センター ; 2006-, 10号, 掲載ページ 23-29, 出版日 2016年03月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 日本語

Characterization of N-doped DLC thin films prepared by hydrocarbons pyrolysis method
Yuma Murata; Cheow-Keong Choo; Hiroshi Ono; Yutaka Nagai; Katsumi Tanaka
MATERIALS TODAY-PROCEEDINGS, 3巻, 掲載ページ S197-S202, 出版日 2016年, 査読付
研究論文（国際会議プロシーディングス）, 英語

UECアカデミックスキルズ授業 − コンファレンス管理システムCMSの導入の試み −
CHOO Cheow Keong
多摩留学生センター教育研究論集, 電気通信大学国際交流推進センター, 9号, 掲載ページ 61-65, 出版日 2014年03月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 日本語

先進理工学科における2年次専門実験（電気・電子回路実験）の準備と実施について
奥野剛史; 大家明広; 山崎典昌; 高橋光生; 早川義彦; 矢崎和幸; 和田紀子; 藁科崇; 坂本克好; Choo Cheow Keong; 永井豊; 守屋雅隆; 沈青; 島田宏; 林茂雄
電気通信大学紀要, 電気通信大学, 25巻, 1号, 掲載ページ 73-78, 出版日 2013年02月, 査読付, The new laboratory class of Electric and Electronic Circuit Laboratory has been conducted. All of the second year students at the Department of gineering Science are required to take this class. An example of preparation for new classes in the new department is shown. Academic engineers and faculties formerly belonging to dif ferent depar tments are cooperatively involved in the preparation and teaching for the laboratory class. The class has been successfully completed in 2011 for the first time after the reorganization of the Faculty of Informatics and Engineering in April 2010. The results concerning report scores of students, answers of students' questionnaires, and e-Learning are shown and discussed.
研究論文（大学，研究機関等紀要）, 日本語

Deposition of potassium-oxygen on silicon surfaces by pulsed laser ablation of potassium superoxide: Study of work function changes
CK Choo; D Suzawa; K Tanaka
SURFACE SCIENCE, 600巻, 7号, 掲載ページ 1518-1525, 出版日 2006年04月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Time-resolved photoluminescence spectra of Si species encapsulated in zeolite supercages
K Tanaka; Y Komatsu; CK Choo
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B, 109巻, 2号, 掲載ページ 736-742, 出版日 2005年01月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Titania nanoparticles prepared with pulsed laser ablation of rutile single crystals in water
A Iwabuchi; CK Choo; K Tanaka
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B, 108巻, 30号, 掲載ページ 10863-10871, 出版日 2004年07月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Photoluminescence intensity enhancement of ion-doped CdWO4 thin films prepared with pulsed laser deposition
CK Choo; S Suzuki; K Tanaka
THIN SOLID FILMS, 458巻, 1-2号, 掲載ページ 179-185, 出版日 2004年06月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Pulsed laser ablation of silicon with low laser fluence in a low-pressure of ammonia ambient
CK Choo; M Tohara; K Enomoto; K Tanaka
APPLIED SURFACE SCIENCE, 228巻, 1-4号, 掲載ページ 120-127, 出版日 2004年04月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Characterization and preparation of chained Si species in zeolite supercages
K Tanaka; CK Choo; Y Komatsu; K Hamaguchi; M Yamaki; T Itoh; T Nishigaya; R Nakata; K Morimoto
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B, 108巻, 8号, 掲載ページ 2501-2508, 出版日 2004年02月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Time-resolved photoluminescence on samarium, nickel, and cesium ion doped scintillator CdWO4 (010) single crystal surfaces
K Tanaka; S Suzuki; CK Choo
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 95巻, 3号, 掲載ページ 1287-1293, 出版日 2004年02月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Time-resolved photoluminescence on ion doped CdWO4 thin films prepared with pulsed laser deposition
K Tanaka; S Suzuki; CK Choo
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 95巻, 3号, 掲載ページ 1294-1300, 出版日 2004年02月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Size selective filtration of silicon nano-structures using AFI AlPO4-5 zeolite pores
CK Choo; K Enomoto; K Tanaka
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, 104巻, 1-2号, 掲載ページ 73-79, 出版日 2003年11月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Pulsed laser ultrahigh vacuum deposited silicon in the presence of excess cesium and oxygen studied with x-ray photoelectron spectroscopy and atomic force microscopy
CK Choo; K Tanaka; H Suzuki; N Saotome; K Ichida
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 21巻, 4号, 掲載ページ 874-880, 出版日 2003年07月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

C-60/zeolite semiconductor electrode and the gas sensing
K Tanaka; CK Choo; S Sumi; Y Kamitani; T Fujii; K Satoh; K Fukuda; R Nakata; M Yoshimune; Y Yoshinaga; T Okuhara
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B, 106巻, 16号, 掲載ページ 4155-4161, 出版日 2002年04月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

CaWO4 thin films synthesized by pulsed laser deposition
K Tanaka; K Fukui; K Ohga; CK Choo
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 20巻, 2号, 掲載ページ 486-491, 出版日 2002年03月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

超高真空系におけるアルカリ金属蒸着装置の試作
C.K. Choo; 小越 一輝; 田中 勝己
電気通信大学紀要, 電気通信大学, 14巻, 2号, 掲載ページ 177-181, 出版日 2002年, 査読付
研究論文（大学，研究機関等紀要）, 日本語

Sm-doped CdWO4 thin films synthesized by pulsed laser deposition
K Tanaka; K Ohga; CK Choo; R Nakata
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 90巻, 10号, 掲載ページ 5369-5375, 出版日 2001年11月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Preparation and evaluation of nitrogen-terminated silicon nanoparticles: laser annealing effect
CK Choo; T Sakamoto; M Tohara; K Tanaka; R Nakata; N Okuyama
SURFACE SCIENCE, 445巻, 2-3号, 掲載ページ 480-487, 出版日 2000年01月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Oxygen containing silicon clusters on Teflon and their work functions studied with X-ray photoelectron spectroscopy and ultraviolet photoelectron spectroscopy
K Tanaka; T Sakamoto; M Tohara; CK Choo; R Nakata
APPLIED SURFACE SCIENCE, 148巻, 3-4号, 掲載ページ 215-222, 出版日 1999年07月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Characterization of nitrogen terminated silicon nanoparticles on AFI zeolite with X-ray and ultraviolet photoelectron spectroscopies
CK Choo; T Sakamoto; K Tanaka; R Nakata
APPLIED SURFACE SCIENCE, 148巻, 1-2号, 掲載ページ 116-125, 出版日 1999年06月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

Negatively charged subnanometer-sized silicon clusters and their reversible migration into AFI zeolite pores studied with X-ray photoelectron spectroscopy and ultraviolet photoelectron spectroscopy
C Choo; T Sakamoto; K Tanaka; R Nakata; T Asakawa
APPLIED SURFACE SCIENCE, 140巻, 1-2号, 掲載ページ 126-137, 出版日 1999年02月, 査読付
研究論文（学術雑誌）, 英語

NOプローブ分子を用いた光電子分光法(XPS,UPS)によるN-doped a-C薄膜の表面構造の評価
村田悠馬; 中山廉平; 小野洋; チュウチャオキョン; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第77回応用物理学会秋季学術講演会, 国内会議
発表日 2016年09月16日

液相PLA法を用いたSrTi1-xCoxO3光触媒薄膜の作製及び評価２
市原文彦; 村田悠馬; 小野洋; Choo Cheow-Keong; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第63回応用物理学会春季学術講演会, 国内会議
発表日 2016年03月20日

光電子分光法を用いたN-doped a-C薄膜の電荷状態の解析
村田悠馬; 市原文彦; 中山廉平; 小野洋; Choo Chew-keong; 桑原大介; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第63回応用物理学会春季学術講演会, 国内会議
発表日 2016年03月20日

液相PLA法を用いたSrTi1-xCoxO3光触媒薄膜の作製及び評価
市原文彦; 村田悠馬; 小野洋; Choo Cheow-Keong; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第76回応用物理学会秋季学術講演会, 国内会議
発表日 2015年09月16日

13C,1H固体NMRを用いたN-doped DLC薄膜の構造解析
村田悠馬; Choo Cheow-keong; 小野洋; 桑原大輔; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第75回応用物理学会秋季学術講演会
発表日 2014年09月19日

CoドープSrTiO3の可視光下での光触媒活性
市原文彦; 小野 洋; Choo Cheow-Keong; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第75回応用物理学会秋季学術講演会
発表日 2014年09月18日

光電子分光法を用いたN-doped DLC薄膜の評価
村田悠馬; 市原文彦; 小野洋; Choo Chew-keong; 桑原大介; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第76回応用物理学会秋季学術講演会
発表日 2014年09月15日

Characterization of N-doped DLC thin films prepared by hydrocarbons pyrolysis method
Y. Murata; C-K. Choo; H. Ono; Y. Nagai; K. Tanaka
口頭発表（一般）, 英語, International Conference on Diamond and Carbon Materials, 国際会議
発表日 2014年09月10日

熱分解法によるNドープDLC薄膜の作製・評価
村田悠馬; 小野洋; チュウ・チャオキョン; 永井豊; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第 74 回応用物理学会秋季学術講演会
発表日 2013年09月18日

音叉型水晶振動子による単結晶グラファイト基板上4Heのスリップ現象の観測(IV)
岡村衡; 野田啓; 谷口淳子; C.K.Choo; 鈴木勝
口頭発表（一般）, 日本語, 日本物理学会,第68回年次大会, 国内会議
発表日 2013年03月29日

液相レーザーアブレーション法を用いた SrTiO_3_微粒子の作製と評価
居超; Choo Cheow-Keong; 永井 豊; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第73回応用物理学会学術講演会,第73回応用物理学会学術講演会
発表日 2012年09月

液相 PLA 法による Si ナノ微粒子の作製と物性評価
船原 一祥; Choo Cheow-Keong; 永井 豊; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第73回応用物理学会学術講演会,第73回応用物理学会学術講演会
発表日 2012年09月

気相 PLA 法による Bi3+ドープ型 CaWO4 薄膜の作製と発光特性の評価
伊藤喜浩; Choo Cheow-Keong; 永井 豊; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第73回応用物理学会学術講演会,第73回応用物理学会学術講演会
発表日 2012年09月

触媒を用いたメタンの熱分解による Diamond Like Carbon 薄膜の作製
西永 泰隆; Choo Cheow-Keong; 永井 豊; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第73回応用物理学会学術講演会,第73回応用物理学会学術講演会
発表日 2012年09月

大高正嗣，C.K.Choo，永井 豊，田中 勝己
大高正嗣; C.K.Choo; 永井 豊; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第59回応用物理学関係連合講演会
発表日 2012年03月

強靭耐摩耗用ＤＬＣ膜
C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（招待・特別）, 日本語, 三遠南信クラスター推進会議, 三遠南信クラスター推進会議、浜松商工会議所、はままつ産業創造センター、(独)科学技術振興機構ＪＳＴイノベーションサテライト茨城・静岡
発表日 2012年01月

酸素欠陥型 CaWO_4_ の物性と光触媒活性
太田 淳; C.K.Choo; 永井 豊; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第71回応用物理学会学術講演会
発表日 2010年09月

液相レーザーアブレーションで作製した TiO_2_微粒子の光触媒活性
戸松靖博; C.K.Choo; 永井豊; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第71回応用物理学会学術講演会(講演予稿集),第71回応用物理学会学術講演会
発表日 2010年09月

Bi系複合酸化物の作製と光触媒評価
戸水謙治; 永井 豊; Choo C.K; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第71回応用物理学会学術講演会
発表日 2010年09月

超高真空熱アニーリング法によるSiナノ微粒子の作製と評価
袁 群; Cheow-Keong Choo; 永井 豊; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第70回応用物理学会学術講演会
発表日 2009年09月

炭化水素熱分解法で作製したDLC膜の顕微ラマン分析
古川 徹; Cheow-Keong Choo; 永井 豊; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第70回応用物理学会学術講演会
発表日 2009年09月

水中レーザーアブレーションで作製したチタニア微粒子によるメチレンブルー光分解反応
高尾 誠; チュウ チャオキョン; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第25回表面科学講演大会,第25回表面科学講演大会
発表日 2006年09月

不純物ドープを目指した酸化チタンの作製とその物性評価
田辺明良; 田中勝己; C.K.Choo
口頭発表（一般）, 日本語, 第９４回触媒討論会
発表日 2004年

水中PLD法によるTiO_2_ナノ微粒子の作製と評価
岩淵 明; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第９４回触媒討論会
発表日 2004年

ゼオライトケージ内Si微粒子の特性
佐藤 聖子; 桑原 大介; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第６５回応用物理学術講演会
発表日 2004年

レーザーアブレーション法により作製した K/O/Si 表面化合物の評価
須澤 大輔; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第６５回応用物理学術講演会
発表日 2004年

レーザーアブレーション法を用いた不純物ドープダングステン酸化膜の作製と評価
吉井 貴志; C.K. choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第64回応用物理学会学術講演会
発表日 2003年08月

水溶液中のレーザーアブレーションで作製したTiO_2_微粒子の物性評価 : その3
岩渕 明; 田辺 明良; 清田 智子; 難波 健介; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第64回応用物理学会学術講演会
発表日 2003年08月

レーザーアブレーションによるSi/K/O表面化合物の形成に関する評価
田中 貴臣; 須沢 大輔; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第64回応用物理学会学術講演会
発表日 2003年08月

CdWO_4_薄膜の発光波長制御
田中 勝己; 鈴木 聡史; C.K. Choo
口頭発表（一般）, 日本語, 日本化学会第83春季年会
発表日 2003年03月

水溶液中のレーザーアブレーションで作製したTiO_2_微粒子の物性評価 : その２
岩渕 明; 田辺 明良; 清田 智子; 難波 健介; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第50回応用物理学関係連合講演会
発表日 2003年03月

レーザーアブレーションによるKO_2_からの脱離種に関する評価
田中 貴臣; 須澤 大輔; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第50回応用物理学関係連合講演会
発表日 2003年03月

水溶液中のレーザーアプレーション法で作製したTiO_2_微粒子の物性評価
岩渕 明; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第63回応用物理学会学術講演会
発表日 2002年09月

レーザーアブレーション法を用いたCsトープCdWO_4_薄膜の作製と評価
吉井 貴志; 鈴木 聡史; C.K. choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第63回応用物理学会学術講演会
発表日 2002年09月

テフロン基板上のセシウム酸化物の安定性
小越 一輝; C.K. Choo; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第63回応用物理学会学術講演会
発表日 2002年09月

アンモニアで終端シリコン微粒子の評価
榎本和弘; 小越一輝; 戸原誠人; C.K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第49回応用物理学関係連合講演会
発表日 2002年03月

テフロン基板上のセシウム酸化物に関する研究
小越一輝; C.K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第49回応用物理学関係連合講演会
発表日 2002年03月

レーザーアブレーション法で作成した窒素終端シリコン微粒子の評価
榎本和弘; 小越一輝; 戸原誠人; C.K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第62回応用物理学会学術講演会
発表日 2001年09月

ゼオライト細孔内へのSi微細構造の作製と発光特性
小松友子; 浜口宏治; 山来雅弘; 伊東知仁; C.K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第62回応用物理学会学術講演会
発表日 2001年09月

MO_x_/CdO/WO_3_ 系ターゲットからのプルーム発光スペクトル解析（M = 希土類など）
鈴木聡史; 大賀功一; C.K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第62回応用物理学会学術講演会
発表日 2001年09月

レーザーアブレーション法によるCd_1-x_Sm_x_WO_4_の薄膜の作成と発光特性
大賀功一; C. K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第61回応用物理学会学術講演会
発表日 2000年09月

C_60_/NaYゼオライトのガス応答特性
鷲見聖二; 神谷美行; C. K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第61回応用物理学会学術講演会
発表日 2000年09月

ゼオライト内へのシリコン種の作成プロセスとその発光特性
濱口宏治; 山来雅弘; 伊東知仁; C. K. Choo; 田中勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第61回応用物理学会学術講演会
発表日 2000年09月

光電子分光法を用いた窒素終端シリコン微粒子の状態分析
戸原 誠; チュウ チャオキョン; 佐藤 千嘉夫; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第60回応用物理学会学術講演会
発表日 1999年09月

窒素終端Si微粒子の作成と評価：レーザーアニーリング効果
チュウ チャオキョン; 坂本 隆; 田中 勝己; 中田 良平
口頭発表（一般）, 日本語, 第46回応用物理学関係連合講演会
発表日 1999年03月

シリコン及び窒素終端シリコン微粒子のテフロン上への作製とその評価
坂本 隆; 戸原 誠; チュウ チャオキョン; 田中 勝己
口頭発表（一般）, 日本語, 第59回応用物理学会学術講演会
発表日 1998年09月

アンモニアを用いた窒素終端Si超微粒子の作成と評価
チュウ チャオキョン; 坂本 隆; 田中 勝己; 中田 良平
口頭発表（一般）, 日本語, 第45回応用物理学関係連合講演会
発表日 1998年03月

ゼオライトAlPO_4_-5を用いたSi超微粒子の作成と評価
チュウ チャオキョン; 田中 勝己; 中田 良平
口頭発表（一般）, 日本語, 第57回応用物理学会学術講演会
発表日 1997年09月

日本の科学と技術A
2019年04月 - 現在
電気通信大学, 学部教養科目, 日本国

環境工学
2017年04月 - 現在
電気通信大学, 基盤理工（III類）, 学部専門科目, 日本国

大学院海外語学研修 II
2017年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する科目, 大学院教養科目, 日本国

大学院海外語学研修 I
2017年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する科目, 大学院教養科目, 日本国

UEC Academic Skills II (Information Literacy and Research) 前期
2014年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する国際科目、西東京三大学連携科目, 学部教養科目, 日本国

UEC Academic Skills II (Information Literacy and Research) 後期
2014年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する国際科目、西東京三大学連携科目, 学部教養科目, 日本国

UEC Academic Skills III (Publishing Literacy and Research) 前期
2014年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する国際科目、西東京三大学連携科目, 学部教養科目, 日本国

UEC Academic Skills III (Publishing Literacy and Research) 後期
2014年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する国際科目、西東京三大学連携科目, 学部教養科目, 日本国

UEC Academic Skills I (Computer Literacy) 後期
2014年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する国際科目、西東京三大学連携科目, 学部教養科目, 日本国

UEC Academic Skills I (Computer Literacy) 前期
2014年04月 - 現在
電気通信大学, 英語で開講する国際科目、西東京三大学連携科目, 学部教養科目, 日本国

シリコンテクノロジー分科会

応用物理学会

常圧炭化水素熱分解による金属上の機能性炭素材料作製と評価
田中 勝己
メタンとアルゴンの混合ガスを１気圧下で金属基板上に800～1100℃で反応させDLC薄膜を作製した。金属基板として、純度99.5％と99.99％の2種類の鉄と鋼材SCM440を用いた。表面生成物を顕微ラマン分光法、硬度測定、SEMによる膜厚測定から評価した。800℃で硬度900以上、膜厚3～6μmのDLC膜の合成に成功した。純度の低い鉄基板の場合、バルク中の酸素原子が表面に拡散し酸化鉄を生成する場合のある事が分かった。条件を変えることで純度の低い鉄基板の場合においてもDLC膜の合成が可能であった。DLC膜と金属基板の結合を強固にする界面層の構造についてラマン測定から解明する事を試みた。
研究期間 2012年04月01日 - 2015年03月31日

触媒反応解析
（株）キャンパスクリエイト
研究期間 2013年 - 2014年

薄膜分析のFTIRによる分析と評価
C.K. Choo
日野自動車株式会社, 研究代表者, 企業からの受託研究
研究期間 2012年 - 2012年

METAL WITH DIAMOND-LIKE CARBON FILM, AND METHOD FOR FORMING DIAMOND-LIKE CARBON FILM
特許権, 田中 勝己, CHOO, CHEOW KEONG, PCT/JP2012/065527, 出願日: 2012年06月18日, 田中 勝己, Choo Cheow Keong 電気通信大学, WO2013/011784, 公開日: 2013年01月24日, US2014/0193594A11, 公表日: 2014年07月10日, EP2735624, 発行日: 2018年08月01日

ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法
特許権, 田中 勝己, チュウ チャオ キョン, 特許2012-087395, 出願日: 2012年04月06日, 田中勝己、チュウチャオキョン, 特開2013-040400, 公開日: 2013年02月28日, 特許第5896463, 発行日: 2016年03月11日

ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜装置および形成方法
特許権, 西永 泰隆, 田中 勝己, チュウ チャオ キョン, 特許2014-98357(P2014-98357), 出願日: 2014年05月12日, 504133110 国立大学法人電気通信大学, 特開2014-237890(P2014-237890A), 公開日: 2014年12月18日, 【課題】成膜に要する時間を短縮することができ、且つ膜品質を向上させることが可能なダイヤモンドライクカーボン膜の成膜装置およびその形成方法を提供する。
【解決手段】ガス制御部２２は、流動経路１４が成膜温度に達するまで、キャリアガスをキャリアガス供給源２０から流動経路１４に供給するように制御すると共に、流動経路１４が成膜温度に達した際に、炭素源が所定濃度で含まれるように、成膜用ガスをキャリアガス供給源２０および炭化水素ガス供給源１８から流動経路１４に所定流量で供給するように制御するように構成されている。

光触媒材料およびその製造方法
特許権, 田中 勝己, チュウ チャオキョン, 太田 淳, 特願2009-14575, 出願日: 2009年06月16日, 国立大学法人 電気通信大学, 特開2011-000506, 公開日: 2011年01月06日, 特許第5582522号, 発行日: 2014年07月25日

MgIn2O4の製造方法及びMgIn2O4材料
特許権, 田中 勝己, チュウ チャオキョン, 小林 理恵, 特願2009-143576, 出願日: 2009年06月16日, 国立大学法人 電気通信大学, 特開2011-001208, 公開日: 2011年01月06日, 特許第5294207号, 発行日: 2013年06月21日

ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法
特許権, 中村 恭子, チュウ チャオキョン, 田中 勝己, 特願2007-106493, 出願日: 2007年04月13日, 特開2008-260670, 公開日: 2008年10月30日, 特許第5240978号, 発行日: 2013年04月12日

ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法およびダイヤモンドライクカーボン膜付き金属物
特許権, Choo Cheow Keong, 田中 勝己, 特願2011-160258, 出願日: 2011年07月21日, 電気通信大学, 特開2013-040400, 公開日: 2013年02月28日

触媒を用いたCH4の熱分解によるDLC膜の作製
特許権, 飯島 貴之, チュウ チャオキョン, 田中 勝己, 特願2005-036870, 出願日: 2005年02月14日, 特開2005-226162, 公開日: 2005年08月25日, 特許第5002803号, 発行日: 2012年06月01日

酸化チタン薄膜の製造方法及び酸化チタン薄膜を有する樹脂製品
特許権, 又賀 純一郎, チュウ チャオキョン, 田中 勝己, 特願2007-106277, 出願日: 2007年04月13日, 特開2008-260667, 公開日: 2008年10月30日, 特許第4919505号, 発行日: 2012年02月10日

アナターゼ型酸化チタン微粒子及びアナターゼ型酸化チタン微粒子の製造方法
特許権, チュウ チャオキョン, 田中 勝己, 特開2007-210787, 出願日: 2007年08月13日, 特開2009-046317, 公開日: 2009年03月05日